Владимир Астахов

Основы технологии электронной компонентной базы

Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа

Материалы и элементы электронной техники. Расчет режимов термического окисления и диффузии при формировании легированных слоев